Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Gardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor Principal: CHEREMISINOFF, P. N.
Outros autores: FARAH, O. G., OUELLETTE, R. P.
Formato: Libro
Idioma:English
Publicado: New Holland Technomic publising company 1985
Subjects:
TEKNIK RADIO
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Electrónico

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Electronic Journals Available from 2017

Campus B

Detalle de Existencias desde Campus B
Número de Clasificación: H548.4469
Prefix: 8 R335.7247
Notes: Item 1 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 2 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 2 holdings note 2
Item 2 holdings note 3
Volume Holdings: Item 1 summary 1
Item 1 summary 2
Item 2 summary 1
Copia 1 (volume 1, issue 1) Uncertain Facer reserva
Notes:
  • Item 1 note 1
Copia 2 (volume 1, issue 2) Dispoñible Facer reserva
Notes:
  • Item 2 note 1
  • Item 2 note 2
  • Item 2 note 3

Campus C

Detalle de Existencias desde Campus C
Número de Clasificación: M169.1706
Notes: Item 3 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Volume Holdings: Item 3 summary 1
Item 3 summary 2
Copia 3 (volume 1, issue 3) En reserva - consulte no mostrador de circulación
Item in Library Facer reserva
Notes:
  • Item 3 note 1

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