Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances
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| Autres auteurs: | , |
| Format: | Livre |
| Langue: | English |
| Publié: |
New Holland
Technomic publising company
1985
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| Sujets: | |
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Électronique
| Digital copy available | Disponible |
| Electronic Journals | Available from 2017 |
Campus B
| Cote: |
B707.7698 |
|---|---|
| Notes: |
Item 3 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link Item 3 holdings note 2 |
| Indications des volumes: |
Item 3 summary 1 Item 3 summary 2 Item 3 summary 3 |
| Exemplaire 3 (volume 1, issue 3) |
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Notes:
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