Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: CHEREMISINOFF, P. N.
Altres autors: FARAH, O. G., OUELLETTE, R. P.
Format: Llibre
Idioma:English
Publicat: New Holland Technomic publising company 1985
Matèries:
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!

Electrònic

Electronic Journals Available from 2013
Electronic Journals Available from 2015
Electronic Journals Available from 2017

Campus C

Detall dels fons de Campus C
Signatura: D154.307
Notes: Item 1 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 1 holdings note 2
Item 1 holdings note 3
Fons del volum: Item 1 summary 1
Còpia 1 (volume 1, issue 1) Item in Library Fer una reserva
Notes:
  • Item 1 note 1
  • Item 1 note 2
  • Item 1 note 3

Campus B

Detall dels fons de Campus B
Signatura: Prefix: 8 N891.8748
Notes: Item 2 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 2 holdings note 2
Fons del volum: Item 2 summary 1
Item 2 summary 2
Còpia 2 (volume 1, issue 2) Item in Library Fer una reserva
Notes:
  • Item 2 note 1
  • Item 2 note 2

Campus A

Detall dels fons de Campus A
Signatura: C783.8269
Prefix: 8 V516.5815
Notes: Item 5 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 5 holdings note 2
Item 7 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Fons del volum: Item 5 summary 1
Item 7 summary 1
Item 7 summary 2
Còpia 5 (volume 2, issue 1) Item in Library Fer una reserva
Notes:
  • Item 5 note 1
  • Item 5 note 2
Còpia 7 (volume 2, issue 3) Disponible Fer una reserva
Notes:
  • Item 7 note 1

Últims números rebuts

issue 1
issue 2