Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Сохранить в:
Библиографические подробности
Главный автор: CHEREMISINOFF, P. N.
Другие авторы: FARAH, O. G., OUELLETTE, R. P.
Формат:
Язык:English
Опубликовано: New Holland Technomic publising company 1985
Предметы:
Метки: Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!

Campus C

Подробно о фондах из Campus C
Шифр: F674.937
Примечания: Item 1 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Объемы фондов: Item 1 summary 1
Item 1 summary 2
Копировать 1 (volume 1, issue 1) Item in Library Поместить задолженность
Примечания:
  • Item 1 note 1