Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Radio frequency/ radiation and plasma processing: industrial applications and advances

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: CHEREMISINOFF, P. N.
Altres autors: FARAH, O. G., OUELLETTE, R. P.
Format: Llibre
Idioma:English
Publicat: New Holland Technomic publising company 1985
Matèries:
TEKNIK RADIO
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!

Electrònic

Digital copy available Disponible
Digital copy available Disponible
Electronic Journals Available from 2015

Campus C

Detall dels fons de Campus C
Signatura: E195.5200
Prefix: 1 X910.2756
Prefix: 3 Y252.2009
Notes: Item 2 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 2 holdings note 2
Item 3 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 3 holdings note 2
Item 6 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Fons del volum: Item 2 summary 1
Item 2 summary 2
Item 2 summary 3
Item 3 summary 1
Item 3 summary 2
Item 3 summary 3
Item 6 summary 1
Item 6 summary 2
Item 6 summary 3
Còpia 2 (volume 1, issue 2) Item in Library Fer una reserva
Notes:
  • Item 2 note 1
  • Item 2 note 2
Còpia 3 (volume 1, issue 3) Invoiced Reclamar aquest
Notes:
  • Item 3 note 1
  • Item 3 note 2
Còpia 6 (volume 2, issue 2) Item in Library Fer una reserva
Notes:
  • Item 6 note 1

Campus A

Detall dels fons de Campus A
Signatura: O650.6716
Notes: Item 7 holdings note 1 https://vufind.org/?f=1&b=2#sample_link
Item 7 holdings note 2
Fons del volum: Item 7 summary 1
Item 7 summary 2
Item 7 summary 3
Còpia 7 (volume 2, issue 3) Disponible Fer una reserva
Notes:
  • Item 7 note 1
  • Item 7 note 2

Ítems similars